Plasma-Enhanced Chemical Vapour Deposition of Amorphous Se Films
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DOI: 10.1051/jphyscol:19955131
文献链接: http://www.edpsciences.org/10.1051/jphyscol:19955131
其他信息:
出版社: EDP Sciences
作者: P. Nagels; E. Sleeckx; R. Callaerts

